“超分辨光刻装备项目”通过国家验收，可加工22纳米芯片

2018-11-29 21:27 丨 国产芯片

飞笛讯，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。（新华社）

       A股上市公司中，相关概念股有江丰电子(300666)、上海贝岭(600171)等。

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